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放大鏡短評
ASML於2月28日的收盤價達到939.5美元的高點，根據Seeking Alpha綜合分析師的預期，公司在2025年的每股盈餘（EPS）可能達到30.32美元。這將ASML的本益比推至31倍，雖然這一比率高於過去五年的平均值25倍，但仍低於行業平均的38倍。儘管ASML的股價目前處於歷史高位，但考慮到公司強大的業務基礎和未來增長潛力，目前的股價水平被認為是合理的。
隨著能源轉型、人工智慧發展、晶片供應鏈的本土化趨勢，以及經濟復甦的背景，預期將持續推動ASML的業務擴展。此外，隨著高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）光刻技術的投入運作，預期將吸引更多相關訂單，進一步加強公司的市場地位和盈利能力。基於這些因素，預期ASML的股價在未來仍有上升的空間。考量到公司在先進製程技術領域的領先地位，以及對全球半導體產業發展的關鍵作用，ASML的股價展望仍然樂觀，值得投資者密切關注。
新聞資訊
荷蘭半導體設備製造商ASML (ASML)週三確認，其龐大的新型高數值孔徑EUV(High NA EUV)光刻系統達到了「首次曝光」，這一里程碑意味著該工具已經能夠運作，雖然還未達到全性能。
英特爾技術開發負責人安·凱勒赫（Ann Kelleher）在週二於聖何塞舉行的SPIE光刻會議上首次提及進展。
ASML確認凱勒赫的談話是準確的。
光刻系統使用聚焦光束來幫助創建電腦晶片的微小電路。ASML的高數值孔徑EUV工具，體積相當於雙層巴士大小，每台成本超過3.5億美元，預計將有助於實現新一代更小、更快的晶片。
首台高數值孔徑工具位於荷蘭費爾德霍芬的ASML實驗室，第二台正在俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾(INTC)工廠組裝中。
包括台積電(TSM)和三星在內的先進晶片製造商預計將在未來五年採用該工具，英特爾在上週的一個活動中表示，計劃在其14A代晶片的生產中使用該工具。
凱勒赫在她的談話中表示，費爾德霍芬的機器已經在「抗蝕劑上的晶圓首次曝光」，意味著該機器已在一塊經過光敏化學處理、準備接受電路圖案的矽晶圓上進行了測試。
一位ASML發言人表示，「首次曝光」的里程碑是「最近才達成」的。
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